[发明专利]多层膜及其制造方法、光学各向异性转印体的制造方法、光学各向异性层、光学各向异性构件和光学层叠体有效
申请号: | 201680022770.3 | 申请日: | 2016-04-20 |
公开(公告)号: | CN107533177B | 公开(公告)日: | 2020-07-28 |
发明(设计)人: | 波多野拓;齐藤昌和;桥本弘昌 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B32B7/023;H01L51/50;H05B33/02 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 赵曦;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种多层膜,其具有第一基材和在上述第一基材上直接形成的包含固化液晶分子的光学各向异性层,上述第一基材具有取向控制力,并且上述第一基材的23℃时的拉伸模量为2500MPa以上。 | ||
搜索关键词: | 多层 及其 制造 方法 光学 各向异性 转印体 构件 层叠 | ||
【主权项】:
暂无信息
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