[发明专利]Ag合金溅射靶及Ag合金膜的制造方法有效
| 申请号： | 201680001534.3 | 申请日： | 2016-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN106414793B | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 岁森悠人;小见山昌三;盐野一郎 | 申请（专利权）人： | 三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C5/06;C22C5/08;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 齐葵;周艳玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种Ag合金溅射靶，其特征在于，所述Ag合金溅射靶为如下组分：以总计0.1原子％以上且15.0原子％以下的范围含有选自Cu、Sn、Sb、Mg、In、Ti中的一种或两种以上的元素，进一步以0.5原子ppm以上且200原子ppm以下的范围含有S，且剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。 | ||
| 搜索关键词： | ag 合金 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种Ag合金溅射靶，其特征在于，所述Ag合金溅射靶为如下组分：含有选自Cu、Ti和Sn中的两种以上的元素，Cu、Ti和Sn的含量总计为0.1原子％以上，Cu、Sn、Sb、Mg、In和Ti的总计含量为15.0原子％以下，进一步以0.5原子ppm以上且200原子ppm以下的范围含有S，且剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。
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