[实用新型]一种物理化学气相沉积装置有效
| 申请号： | 201621495631.6 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN206289293U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 刘金;任列香;薛金辉;武国兴 | 申请（专利权）人： | 吕梁学院 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C16/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 033001 山西省*** | 国省代码： | 山西;14 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种物理化学气相沉积装置，包括真空沉积室、通气装置和加热装置，所述加热装置由上加热器和下加热器构成，所述上加热器位于所述真空沉积室顶部，所述下加热器位于所述上加热器正下方，所述下加热器与所述真空沉积室底表面之间设有一调节升降装置，所述上加热器下表面上设有一衬底基片夹，所述上加热器由上加热元件和上温控器构成，所述下加热器由下加热元件和下温控器构成，所述下加热元件上表面中部设有一向下凹陷的加料槽。本实用新型通过优化设计，具有加热控制性能好、使用方便、调整精度高的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理化学 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种物理化学气相沉积装置，包括真空沉积室、通气装置和加热装置，其特征在于：所述加热装置由上加热器和下加热器构成，所述上加热器位于所述真空沉积室顶部，所述下加热器位于所述上加热器正下方，所述下加热器与所述真空沉积室底表面之间设有一调节升降装置，所述上加热器下表面上设有一衬底基片夹，所述上加热器由上加热元件和上温控器构成，所述下加热器由下加热元件和下温控器构成，所述上加热元件采用钼金属材料制成，所述上加热元件下表面为抛光平面结构，所述下加热元件采用石墨材料制成，所述下加热元件上表面中部设有一向下凹陷的加料槽，所述加料槽底部采用圆形平底结构，所述加料槽槽壁采用圆锥壁结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吕梁学院，未经吕梁学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201621495631.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
