[实用新型]具有用于反馈控制的微流体裸片和传感器的气雾栽培系统有效
| 申请号： | 201621493699.0 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN206533866U | 公开（公告）日： | 2017-10-03 |
| 发明（设计）人： | M·德法齐奥;S·多德 | 申请（专利权）人： | 意法半导体公司 |
| 主分类号： | A01G31/02 | 分类号： | A01G31/02;A01G31/06 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,吕世磊 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本披露涉及具有用于反馈控制的微流体裸片和传感器的气雾栽培系统。具体地，本披露涉及一种用于植物生长的温室或单个容器，所述温室或单个容器耦合至物联网并且包括用于水或养分分配的微流体裸片。基于包括在生长环境内的传感器，所述微流体裸片是可自动控制的或者利用来自远程用户的指令进行控制的。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 反馈 控制 流体 传感器 栽培 系统 | ||
【主权项】：
一种系统，其特征在于，包括：被配置成用于支撑植物的容器；以及定位在所述容器内的微流体裸片，所述裸片包括：衬底；在所述衬底上的第一绝缘层；在所述第一绝缘层中的多个腔室；在所述第一绝缘层上的第二绝缘层；以及在所述第二绝缘层中的多个喷嘴。
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