[实用新型]一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置有效
| 申请号： | 201621485710.9 | 申请日： | 2016-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN206348595U | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 王历先;项宗齐 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 | 代理人： | 宋倩,奚华保 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，包括沿吸盘组件的径向开设的第一滑槽和第二滑槽，所述第一滑槽至吸盘组件圆心的延长线与第二滑槽至吸盘组件圆心的延长线相互垂直，所述第一滑槽和第二滑槽上均安装有自动定位组件，所述自动定位组件包括电动位移滑台以及安装在电动位移滑台上的定位块，所述定位块的上表面高于吸盘组件的上表面。本实用新型适用于所有标准尺寸衬底及非标准尺寸衬底的吸盘定位，且定位调节能够实现自动控制，具有结构简单、调节简便、定位精确、兼容性强的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体 无掩膜直写 曝光 设备 吸盘 定位 装置 | ||
【主权项】：
一种用于半导体无掩膜直写曝光设备的吸盘定位装置，其特征在于：包括沿吸盘组件的径向开设的第一滑槽和第二滑槽，所述第一滑槽至吸盘组件圆心的延长线与第二滑槽至吸盘组件圆心的延长线相互垂直，所述第一滑槽和第二滑槽上均安装有自动定位组件，所述自动定位组件包括电动位移滑台以及安装在电动位移滑台上的定位块，所述定位块的上表面高于吸盘组件的上表面。
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