[实用新型]一种玻璃基片的清洗设备

摘要

本实用新型公开一种玻璃基片的清洗设备，包括箱体、盖板、两个喷淋结构以及上盖，上盖可拆卸地设置在箱体的顶部开口上；上盖的边缘成型有朝向内腔凹陷的引流部，引流部的底部位于清洗腔体的正上方，用于引导凝结在引流部内壁面上的溶液回落在清洗腔体内。当清洗基板时，即使在引流部的内壁面凝结或喷射有溶液，溶液会及时沿着引流部的内壁面流到其底部，再回落到清洗腔体内，从而减少了侧壁盖板上的残留的溶液量，对侧槽与盖板之间的密封胶起到保护作用，提高密封胶的使用寿命，确保盖板与侧槽顶部开口处的密封性能；同时，回流的溶液再次进入清洗腔体内对玻璃基片的表面进行清洗，形成溶液的循环利用，减少溶液的浪费。

主权项

一种玻璃基片的清洗设备，包括箱体(1)，具有内腔和顶部开口，沿其长度方向，所述内腔中成型有平行设置的两块隔板(13)，两个所述隔板(13)分别与所述箱体(1)的内壁面之间形成侧槽(11)，两所述侧槽(11)之间形成清洗腔体(12)；盖板(2)，一一对应且通过密封胶固定在所述侧槽(11)的顶部开口上；喷淋结构，为至少两个，水平相对设置在所述清洗腔体(12)内，所述盖板(2)位于两个所述喷淋结构之间；上盖(3)，可拆卸地设置在所述箱体(1)的顶部开口上；其特征在于：所述上盖(3)的边缘成型有朝向所述内腔凹陷的引流部(31)，所述引流部(31)的底部位于所述清洗腔体(12)的正上方，用于引导凝结在所述引流部(31)内壁面上的溶液回落在所述清洗腔体(12)内。