[实用新型]一种高效紧凑型磁控镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种高效紧凑型磁控镀膜装置，包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室；镀膜室内设有呈S型的平面靶，平面靶中，靶座中部带有内凹腔体，导磁板设于内凹腔体底部，外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上，外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周，外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。使用时，基片放置于基片托板上后，由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室，在镀膜室内，由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理；镀膜完成后，由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室，最后送至进出片平台上；基片的送入方向与送出方向相反。本实用新型具有设备结构紧凑、镀膜效率高的特点。

主权项

一种高效紧凑型磁控镀膜装置，其特征在于，包括并排连接的多个真空室，多个真空室包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室；镀膜室内设有呈S型的平面靶，平面靶包括靶座、外圈磁铁、内圈磁铁和导磁板，靶座中部带有内凹腔体，导磁板设于内凹腔体底部，外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上，外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周，外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。