[实用新型]电浆蚀刻设备有效
| 申请号： | 201621375117.9 | 申请日： | 2016-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN206282820U | 公开（公告）日： | 2017-06-27 |
| 发明（设计）人： | 苏彦荧 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种电浆蚀刻设备，包括上电极部、与上电极部相对间隔设置的下电极部；所述下电极部包括电极板、设于所述电极板上并覆盖所述电极板的阳极膜、并列且相互间隔设于所述阳极膜上的两吸附平台单元、及设在所述阳极膜上并包围每一吸附平台单元四周边缘的屏蔽环；能够同时对两片基板进行处理，从而使用该电浆蚀刻设备，与采用现有技术相比在相同的产能下，能够减少产线设备数量，提高厂房空间的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 设备 | ||
【主权项】：
一种电浆蚀刻设备，其特征在于，包括上电极部(10)、及与所述上电极部(10)相对间隔设置的下电极部(20)；所述下电极部(20)包括电极板(21)、设于所述电极板(21)上并覆盖所述电极板(21)的阳极膜(22)、并列且相互间隔设于所述阳极膜(22)上的两吸附平台单元(231)、及设在所述阳极膜(22)上并包围每一吸附平台单元(231)四周边缘的屏蔽环(24)。
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