[实用新型]钠离子回滴应用于氟硅酸钠生产进行废水处理的系统有效
申请号: | 201621328783.7 | 申请日: | 2016-12-06 |
公开(公告)号: | CN206308167U | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 赵思全 | 申请(专利权)人: | 甘肃瓮福化工有限责任公司 |
主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F103/12;C02F101/10 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心62100 | 代理人: | 张克勤,田玉兰 |
地址: | 737000 甘肃省*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种钠离子回滴应用于氟硅酸钠生产进行废水处理的系统,属于化工领域,解决现有生产工艺外排废水中钠离子超标的问题。该系统包括反应釜、沉降槽、离心机、母液槽、洗涤水槽、旋流沉降器,反应釜与沉降槽相连,沉降槽分别与洗涤水槽和离心机相连,离心机与母液槽相连,母液槽与洗涤水槽相连,洗涤水槽与旋流沉降器相连。本实用新型系统是在生产过程中产生的钠离子超标的废水中加入氟硅酸回滴进行中和反应,并利用旋流分离沉降器进行分离,将废水中的钠离子从原来的0.8%降至0.2%,达到磷酸生产萃取钠离子含量不超过0.35%的要求,使废水得以利用,同时硫酸钠的消耗从1.10降至0.9,产品质量优等。 | ||
搜索关键词: | 钠离子 应用于 硅酸钠 生产 进行 废水处理 系统 | ||
【主权项】:
一种钠离子回滴应用于氟硅酸钠生产进行废水处理的系统,其特征在于:包括反应釜(1)、沉降槽(2)、离心机(3)、母液槽(4)、洗涤水槽(5)、旋流沉降器(6),反应釜(1)与沉降槽(2)相连,沉降槽(2)分别与洗涤水槽(5)和离心机(3)相连,离心机(3)与母液槽(4)相连,母液槽(4)与洗涤水槽(5)相连,洗涤水槽(5)与旋流沉降器(6)相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于甘肃瓮福化工有限责任公司,未经甘肃瓮福化工有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621328783.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:城市环卫中水回用装置
- 下一篇:一种双转子风轮驱动装置及其用途