[实用新型]纳米SiO2气凝胶的制备装置

摘要

本实用新型公开了纳米SiO2气凝胶的制备装置，包括依次连接的层流等离子体发生装置、汽化装置、冷凝装置和静电吸附成型装置，所述层流等离子体发生装置包括依次连接的气路结构、发生器（1）和电弧通道结构（2），其特征在于：所述气路结构包括依次连接的气体输入管（3）、气体混合腔（4）和可调节直径大小的气体输出管（5）。本实用新型实现了专用于等离子束蒸‑凝法制备纳米SiO2气凝胶的目的，使得采用等离子束蒸‑凝法制备纳米SiO2气凝胶能够连续化生产，一步到位。

主权项

纳米SiO2气凝胶的制备装置，其特征在于：包括依次连接的层流等离子体发生装置、汽化装置、冷凝装置（101）和静电吸附成型装置；所述层流等离子体发生装置包括依次连接的气路结构、发生器（1）和电弧通道结构（2），其特征在于：所述气路结构包括依次连接的气体输入管（3）、气体混合腔（4）和可调节直径大小的气体输出管（5）；所述发生器（1）包括阳极结构（6）和阴极结构（7）；所述阳极结构（6）包括阳极柱、阳极帽以及在阳极帽内依次安装的密封绝缘垫片、螺旋导电弹簧和阳极喷嘴；所述阴极结构（7）包括阴极柱和阴极罩；所述阳极结构（6）位于中心，沿阳极结构（6）周围环形等距离设置至少三个阴极结构（7）；所述汽化装置包括送粉器、蒸发管（10）和汽化管（11），其特征在于：所述送粉器从蒸发管（10）的侧面通入；所述蒸发管（10）位于所述汽化管（11）的下方；所述蒸发管（10）与汽化管（11）连接且两者的连接之处为分隔网；所述蒸发管（10）与层流等离子体发生装置的连接处设置有热源通孔（12）；所述汽化管（11）上方横向弯曲，弯曲处连接加压装置（13）；所述静电吸附成型装置包括密封绝缘机构（30）、高压发生器（31）、静电发生器（32）、基板（33）、传送机构（34）和粒子进口端（35）；所述基板（33）位于传送机构（34）上且随传送机构（34）做水平运动；所述粒子进口端（35）设置在密封绝缘机构（30）的顶部且位于基板（33）上方；所述静电发生器（32）包括静电发射棒（36）和直流高压电源；所述静电发射棒（36）在水平方向上均匀排列且相互之间有间隙。