[实用新型]一种制备纳米SiO2气凝胶的装置有效
| 申请号: | 201621088851.7 | 申请日: | 2016-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN206172991U | 公开(公告)日: | 2017-05-17 |
| 发明(设计)人: | 窦志勇;李露;何泽;李向阳 | 申请(专利权)人: | 成都真火科技有限公司 |
| 主分类号: | C01B33/16 | 分类号: | C01B33/16;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙)51211 | 代理人: | 冉鹏程 |
| 地址: | 610016 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种制备纳米SiO2气凝胶的装置,包括层流等离子体发生器、冷凝装置和静电吸附装置。层流等离子体发生器包括电弧通道,电弧通道连接反应室,反应室上连接微量给粉器;所述反应室通过分配管连接静电吸附装置;静电吸附装置包括静电发生器和基板;所述反应室内部横向设置有滑动机构,基板放置在滑动机构上。等离子体发生器设置有功率调节器,来调节发生器的功率,从而调节层流等离子射束的长短。微量给粉器将纳米SiO2粒子处理后送入反应室内,在反应室内通过层流等离子体发生器产生的层流等离子体射束对纳米SiO2粒子蒸发、汽化,再通过冷凝装置进行冷凝,冷凝后的纳米SiO2粒子通过分配管送入静电吸附装置成型。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 制备 纳米 sio2 凝胶 装置 | ||
【主权项】:
一种制备纳米SiO2气凝胶的装置,其特征在于:包括依次连接的层流等离子体发生器、冷凝装置(2)和静电吸附装置(3);所述层流等离子体发生器包括依次连接的气路结构、发生器和电弧通道(6),所述气路结构包括依次连接的气体输入管(7)、气体混合腔(8)和气体输出管(9);所述气体输出管(9)与所述发生器的中心轴线重合;所述发生器包括阳极结构(10)和阴极结构(11),以及设置在阳极结构(10)底座内部的功率调节器(12);所述阳极结构(10)位于中心,沿阳极结构(10)周围环形等距离设置阴极结构(11);所述电弧通道(6)连接反应室(13),反应室(13)上连接微量给粉器(14),所述冷凝装置(2)设置在反应室(13)外部;所述反应室(13)通过分配管(15)连接静电吸附装置(3);静电吸附装置(3)包括静电发生器和基板;所述反应室(13)内部横向设置有滑动机构(18),基板放置在滑动机构(18)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都真火科技有限公司,未经成都真火科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201621088851.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:制备纳米SiO2气凝胶的冷凝装置
- 下一篇:一种纳米SiO2气凝胶的制备装置
- 纳米SiO2复合玻璃棉隔板
- 一种在SiC材料上生长SiO<sub>2</sub>钝化层的方法
- 张应力 LPCVD SiO<sub>2</sub>膜的制造方法
- 一种SiO<sub>2</sub>减反射薄膜及其制备方法
- CVD SiC/SiO<sub>2</sub>梯度抗氧化复合涂层及其制备方法
- 通过由蒸汽相沉积和借助液体硅氧烷原料制造合成石英玻璃的方法
- 一种用于SiO<sub>2</sub>陶瓷及SiO<sub>2</sub>陶瓷基复合材料连接的钎料及其制备方法
- 荧光SiO2胶体试剂的制备方法及使用荧光SiO2胶体试剂的试纸
- 一种SiO2/GQDs–DNA–Au NPs纳米复合材料及其制备方法和应用
- 色彩可调的光子晶体装饰涂层及其制备方法





