[实用新型]清洗槽

摘要

本实用新型公开一种清洗槽，包括一底壁和垂直设置在底壁上的4个侧壁，其中，底壁的下方设置有气缸装置，气缸装置带动底壁上下运动，底壁上还设置有换能器装置，4个侧壁中左右相对设置的2个侧壁的顶部设置有喷淋装置，4个侧壁中前后相对设置的2个侧壁的底部设置有下给水装置。本实用新型通过在清洗槽上设置气缸装置、换能器装置、喷淋装置以及下给水装置，从而实现清洗槽的一体化设计，与现有技术中的清洗槽相比，可以实现的功能更多，效率更高，更节约资源，对晶片生产过程中的移动次数更少，从而达到提高成品率，提高生产效率，节约资源的目的。

主权项

一种清洗槽，其特征在于，包括一底壁和垂直设置在所述底壁上的4个侧壁，所述底壁的下方设置有气缸装置，所述气缸装置带动所述底壁上下运动，所述底壁上还设置有换能器装置，所述4个侧壁中左右相对设置的2个侧壁的顶部设置有喷淋装置，所述4个侧壁中前后相对设置的2个侧壁的底部设置有下给水装置。