[实用新型]具有嵌入式透明扩展电极结构的发光二极管有效
申请号: | 201620931785.9 | 申请日: | 2016-08-24 |
公开(公告)号: | CN206040685U | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
发明(设计)人: | 张银桥;潘彬 | 申请(专利权)人: | 南昌凯迅光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14;H01L33/32;H01L33/36 |
代理公司: | 江西省专利事务所36100 | 代理人: | 张静,张文 |
地址: | 330038 江西省南昌市红谷滩新*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有嵌入式透明扩展电极结构的发光二极管,在GaAs衬底的上面依次设置的缓冲层、布拉格反射层、n‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层、p‑AlGaInP限制层、p‑GaP窗口层、ITO电流扩展层和AlGaInP粗化层,在图案化的AlGaInP粗化层上设有金属电极层,在GaAs衬底的下面设有背电极层,所述金属电极层包括主电极和扩展电极,其中主电极连接在图案化的AlGaInP粗化层上,扩展电极嵌入在图案化的AlGaInP粗化层中,并且与ITO电流扩展层保持连接。扩展电极自身因为其嵌入式结构的特点,因而稳定性好,从而提高了整个金属电极层的附着性和完整性,确保了发光二极管的工作电压稳定,提高了产品的焊线可靠性和发光效率,极大地提升了产品的质量和良率。 | ||
搜索关键词: | 具有 嵌入式 透明 扩展 电极 结构 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种具有嵌入式透明扩展电极结构的发光二极管,包括GaAs衬底,在GaAs衬底的上面依次设置的缓冲层、布拉格反射层、n‑AlGaInP限制层、MQW多量子阱有源层、p‑AlGaInP限制层、p‑GaP窗口层、ITO电流扩展层和AlGaInP粗化层,p‑GaP窗口层为图案化的p‑GaP窗口层,AlGaInP粗化层为图案化的AlGaInP粗化层,在图案化的AlGaInP粗化层上设有金属电极层,在GaAs衬底的下面设有背电极层,其特征在于:所述金属电极层包括主电极和扩展电极,其中:主电极连接在图案化的AlGaInP粗化层上,扩展电极嵌入在图案化的AlGaInP粗化层中,并且与ITO电流扩展层保持连接,主电极的中心与图案化的GaP窗口层的图形中心在同一中心线上。
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