[实用新型]硅片打磨用底盘有效
申请号: | 201620923831.0 | 申请日: | 2016-08-23 |
公开(公告)号: | CN206010805U | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 | 申请(专利权)人: | 安徽正田能源科技有限公司 |
主分类号: | B24B41/06 | 分类号: | B24B41/06 |
代理公司: | 安徽信拓律师事务所34117 | 代理人: | 张加宽 |
地址: | 239300 安徽省滁*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 一种硅片打磨用底盘,包括底盘本体,在所述底盘本体上设置有凹槽,硅片置于凹槽内,所述凹槽内安装有托架,所述托架呈T形,一端为圆盘面,另一端为直线端,直线端穿过底盘本体并可在凹槽内上下移动。通过在底盘本体的凹槽内设置一上下移动的托架,依据需要打磨厚度调整托架在凹槽内的高度,不需频繁的更换底盘,进一步在托架内设置通孔并与真空装置连接,可防止打磨过程中可能出现的硅片位置滑移。 | ||
搜索关键词: | 硅片 打磨 底盘 | ||
【主权项】:
一种硅片打磨用底盘,包括底盘本体,在所述底盘本体上设置有凹槽,硅片置于凹槽内,其特征在于:所述凹槽内安装有托架,所述托架呈T形,一端为圆盘面,另一端为直线端,直线端穿过底盘本体并可在凹槽内上下移动。
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