[实用新型]硅片打磨用底盘有效

专利信息
申请号: 201620923831.0 申请日: 2016-08-23
公开(公告)号: CN206010805U 公开(公告)日: 2017-03-15
发明(设计)人: 吕凤岗;程林;曹来福;戴珍旭;胡正田 申请(专利权)人: 安徽正田能源科技有限公司
主分类号: B24B41/06 分类号: B24B41/06
代理公司: 安徽信拓律师事务所34117 代理人: 张加宽
地址: 239300 安徽省滁*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种硅片打磨用底盘,包括底盘本体,在所述底盘本体上设置有凹槽,硅片置于凹槽内,所述凹槽内安装有托架,所述托架呈T形,一端为圆盘面,另一端为直线端,直线端穿过底盘本体并可在凹槽内上下移动。通过在底盘本体的凹槽内设置一上下移动的托架,依据需要打磨厚度调整托架在凹槽内的高度,不需频繁的更换底盘,进一步在托架内设置通孔并与真空装置连接,可防止打磨过程中可能出现的硅片位置滑移。
搜索关键词: 硅片 打磨 底盘
【主权项】:
一种硅片打磨用底盘,包括底盘本体,在所述底盘本体上设置有凹槽,硅片置于凹槽内,其特征在于:所述凹槽内安装有托架,所述托架呈T形,一端为圆盘面,另一端为直线端,直线端穿过底盘本体并可在凹槽内上下移动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽正田能源科技有限公司,未经安徽正田能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620923831.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top