[实用新型]支撑装置及刻蚀设备有效
| 申请号： | 201620870406.X | 申请日： | 2016-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN205900518U | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | 赵吾阳;蒋冬华;袁洪光;胡岩;廖鹏宇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人： | 张海明 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种支撑装置及刻蚀设备，涉及基板刻蚀技术领域，为解决支撑顶针摩擦产生较多碎屑的问题。本实用新型支撑装置包括座体和安装在座体上的支撑顶针，座体上放置有电极板，电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔，所述顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙。所述刻蚀设备包括上述技术方案所提的支撑装置。本实用新型提供的支撑装置及刻蚀设备用于各种基板的刻蚀，如液晶面板的刻蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 装置 刻蚀 设备 | ||
【主权项】：
一种支撑装置，包括座体和安装在座体上的支撑顶针，座体上放置有电极板，电极板上设有供支撑顶针穿过的顶针孔，其特征在于，所述顶针孔的侧壁与支撑顶针之间设有形变间隙。
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