[实用新型]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201620857856.5 申请日: 2016-08-09
公开(公告)号: CN206040641U 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 麦可·凯利;大卫·海纳;罗纳·休莫勒;罗杰·圣艾曼德 申请(专利权)人: 艾马克科技公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/538;H01L23/31
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 许静,安利霞
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实用新型是关于一种半导体装置,其包括重新分布结构,其包括第一重新分布层,其包括第一介电层,其包括第一介电材料;以及第一导电的线路;以及第二重新分布层,其包括第二介电层,其包括不同于所述第一介电材料的第二介电材料;以及第二导电的线路,其电耦接至所述第一导电的线路;第一半导体晶粒,其附接至所述第一重新分布层;第二半导体晶粒,其附接至所述第一重新分布层;以及导电的互连结构,其附接至所述第二重新分布层。作为非限制性的例子,此实用新型内容的各种特点是提供各种的半导体封装结构,其是包括一薄的细微间距的重新分布结构,其可以减少成本、增进可靠度、及/或增进该半导体装置的可制造性。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,包括:重新分布结构,其包括:第一重新分布层,其包括:第一介电层,其包括第一介电材料;以及第一导电的线路;以及第二重新分布层,其包括:第二介电层,其包括不同于所述第一介电材料的第二介电材料;以及第二导电的线路,其电耦接至所述第一导电的线路;第一半导体晶粒,其附接至所述第一重新分布层;第二半导体晶粒,其附接至所述第一重新分布层;以及导电的互连结构,其附接至所述第二重新分布层。
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