[实用新型]一种限制层作用下的纳米石墨颗粒的激光连续制备系统有效

专利信息
申请号: 201620844729.1 申请日: 2016-07-29
公开(公告)号: CN206108906U 公开(公告)日: 2017-04-19
发明(设计)人: 谢小柱;江伟;魏昕;胡伟;任庆磊 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C01B32/205 分类号: C01B32/205;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 510006 广东省广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型是一种限制层作用下的纳米石墨颗粒的激光连续制备系统,主要包括工作台、石墨片靶材、限制层、激光束、透镜、液流、运输通道、容器。将石墨片靶材置于工作台上,将限制层贴合放在石墨片上,将脉冲激光聚焦在两者交界面处,对石墨靶材进行填充烧蚀,在限制层作用下,激光诱导等离子体的冲击作用将获得的石墨颗粒推至液流运输通道中,液流将颗粒运输到容器当中,将溶液干燥后,可以得到纳米尺寸的石墨颗粒。本实用新型无需使用昂贵的设备,在限制层的作用下,通过操作简单的激光烧蚀法,使用廉价碳质原料就可得到具有耐高温、导电导热性良好、润滑性能好等优点的石墨纳米颗粒,在相关领域具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 限制 作用 纳米 石墨 颗粒 激光 连续 制备 系统
【主权项】:
一种限制层作用下的纳米石墨颗粒的激光连续制备系统,其特征在于,包括有工作台,石墨片靶材,限制层,激光束,透镜,石墨颗粒,液流,运输通道,容器,石墨片靶材置于工作台上,限制层贴合放在石墨片上。
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