[实用新型]半导体芯片的钝化膜结构及电路板有效
申请号: | 201620696004.2 | 申请日: | 2016-07-04 |
公开(公告)号: | CN205752146U | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | 艾亮东;廖瑞忠;陈丽军;胡利娟;温姣姣 | 申请(专利权)人: | 北京思众电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 郭俊霞 |
地址: | 100000 北京市大兴区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种半导体芯片的钝化膜结构及电路板,其中,在该结构中,芯片的正面、背面和侧面分别设有钝化膜,钝化膜包括第一钝化层、第二钝化层和第三钝化层,其中,第一钝化层分别设置在芯片的正面、背面和侧面,第二钝化层和第三钝化层依次设置在第一钝化层上。本实用新型提供的半导体芯片的钝化膜结构,第一钝化层设在芯片的正面、背面和侧面,在第一钝化层上一次设置第二钝化层和第三钝化层,第二钝化层位于第一钝化层和第三钝化层之间,多层的设置,使芯片的各个面的钝化效果更好,避免了芯片与外界氛围的直接接触和杂质原子对芯片的吸附,有利于阻挡外部应力对芯片的损伤,进而减小芯片各个面的漏电现象,提高了芯片的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 半导体 芯片 钝化 膜结构 电路板 | ||
【主权项】:
一种半导体芯片的钝化膜结构,其特征在于,芯片的正面、背面和侧面分别设置有钝化膜,所述钝化膜包括第一钝化层、第二钝化层和第三钝化层,其中,所述第一钝化层分别设置在所述芯片的正面、背面和侧面,所述第二钝化层和所述第三钝化层依次设置在所述第一钝化层上。
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