[实用新型]一种膏霜类化工产品用真空乳化装置

摘要

本实用新型公开了一种膏霜类化工产品用真空乳化装置，包括底座和外壳，外壳固定安装在底座上，外壳底部设有均质搅拌电机，外壳内部设有罐体，外壳和罐体之间设有夹层外套，罐体上密封连接有上盖，上盖通过气管连接真空泵，上盖上中心处设有低速搅拌电机，罐体内部上端设有低速搅拌轴，低速搅拌轴与低速搅拌电机固定连接，低速搅拌轴下端连接刮壁搅拌叶，罐体内部底面设有切割套，切割套内部设有高速转轴，高速转轴与均质搅拌电机主轴固定连接，高速转轴下部位于切割套内设有分散盘，分散盘上部设有搅拌扇叶。该种膏霜类化工产品用新型真空乳化装置，具有较好的均质效果。

主权项

一种膏霜类化工产品用真空乳化装置，包括底座(1)和外壳(12)，所述外壳(12)固定安装在底座(1)上，其特征在于，所述外壳(12)底部设有均质搅拌电机(2)，所述外壳(12)内部设有罐体(11)，所述外壳(12)和罐体(11)之间设有夹层外套(5)，所述罐体(11)上密封连接有上盖(10)，所述上盖(10)通过气管连接真空泵(7)，所述上盖(10)上中心处设有低速搅拌电机(8)，所述罐体(11)内部上端设有低速搅拌轴(9)，所述低速搅拌轴(9)与低速搅拌电机(8)固定连接，所述低速搅拌轴(9)下端连接刮壁搅拌叶(6)，所述罐体(11)内部底面设有切割套，切割套内部设有高速转轴(13)，所述高速转轴(13)与均质搅拌电机(2)主轴固定连接，所述高速转轴(13)下部位于切割套内设有分散盘(3)，所述分散盘(3)上部设有搅拌扇叶(4)。