[实用新型]曝光基台及曝光设备有效
| 申请号： | 201620553224.X | 申请日： | 2016-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN205665511U | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 余世荣;吴春晖;孟庆勇;蒋盛超 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 230011 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种曝光基台及曝光设备，属于显示技术领域。曝光基台包括：基台本体、气流控制系统和气体喷嘴系统；气体喷嘴系统设置在基台本体上，且气体喷嘴系统与气流控制系统连接，气流控制系统用于控制从气体喷嘴系统喷出的气体的流量，使从气体喷嘴系统喷出的气体形成用于支撑待曝光器件的气垫层。本实用新型解决了曝光的均一性较差的问题，达到了提高曝光的均一性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种曝光基台，其特征在于，所述曝光基台包括：基台本体、气流控制系统和气体喷嘴系统；所述气体喷嘴系统设置在所述基台本体上，且所述气体喷嘴系统与所述气流控制系统连接，所述气流控制系统用于控制从所述气体喷嘴系统喷出的气体的流量，使从所述气体喷嘴系统喷出的气体形成用于支撑待曝光器件的气垫层。
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