[实用新型]真空镀膜装置有效
申请号: | 201620545206.7 | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN205874535U | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 南京知识律师事务所32207 | 代理人: | 朱少华 |
地址: | 214028 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及真空镀膜装置,所述装置由喷淋板、连通真空的反应腔、脉冲阀组成,所述喷淋板同时是反应腔顶盖,所述顶盖内部设置气体管,每一种气体管由外部气体进气管和内部气体分布管组成,并且每一种气体管为相互独立的气体管。采用本实用新型技术方案,进入喷淋板的反应气体的进气管和气体分布管是完全独立的,保证了不同反应气体在进入反应腔前相互隔离,完全避免了CVD的产生,缩短了残余气体反应物及气体反应产物的清洗时间,提高了沉积速度.另一方面,本实用新型使气流进入反应腔分布均匀,确保了反应气体在反应腔的任何部位的气体浓度相同,完美解决了影响薄膜沉积厚度的气体浓度差异问题。 | ||
搜索关键词: | 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】:
真空镀膜装置,所述装置由喷淋板、连通真空的反应腔、脉冲阀组成,其特征在于:所述喷淋板同时是反应腔顶盖,所述顶盖内部设置气体管,每一种气体管由外部气体进气管和内部气体分布管组成,并且每一种气体管为相互独立的气体管,所述内部气体分布管上设有若干个喷淋孔组。
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