[实用新型]一种痕量杂质测量装置有效
| 申请号： | 201620531764.8 | 申请日： | 2016-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN205665183U | 公开（公告）日： | 2016-10-26 |
| 发明（设计）人： | 郭春雨;于平;于清炎;干大强 | 申请（专利权）人： | 乐山凯亚达光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N1/28 |
| 代理公司： | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 徐丰;刘袁君 |
| 地址： | 614000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种痕量杂质测量装置，包括检测室、设置在检测室内的粉末吸收器；所述检测室侧边设置有收纳区，且在收纳区内设置有可在检测室底部移动的压辊；所述压辊外部设置有多个细小的碾压钉齿，压辊内设置有四个干燥室，每个干燥室内设置有多根加热盘管，加热盘管呈三排多列交错布置，且每根的加热盘管之间相互独立。采用本实用新型可以对超纯金属进行有效准确的痕量杂质测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 痕量 杂质 测量 装置 | ||
【主权项】：
一种痕量杂质测量装置，其特征在于：包括检测室、设置在检测室内的粉末吸收器；所述检测室侧边设置有收纳区，且在收纳区内设置有可在检测室底部移动的压辊；所述压辊外部设置有多个细小的碾压钉齿，压辊内设置有四个干燥室，每个干燥室内设置有多根加热盘管，加热盘管呈三排多列交错布置，且每根的加热盘管之间相互独立。
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