[实用新型]一种基于脉冲磁控溅射法石英晶体谐振器有效
申请号: | 201620418555.2 | 申请日: | 2016-05-10 |
公开(公告)号: | CN205657661U | 公开(公告)日: | 2016-10-19 |
发明(设计)人: | 赵庸桓 | 申请(专利权)人: | 深圳市凯越翔电子有限公司 |
主分类号: | H03H9/19 | 分类号: | H03H9/19 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 侯蔚寰 |
地址: | 518110 广东省深圳市龙*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种基于脉冲磁控溅射法石英晶体谐振器,包括真空室,所述真空室的左右两侧设置有靶,所述数据显示器的左下方安装有电压调节旋钮,所述电压调节旋钮的下方设置有通电时间控制旋钮,所述电压调节旋钮的右侧安装有电源接口,所述电源接口的右侧设置有电压出口,所述控制面板与电极是通过电性连接。本实用新型采用了脉冲磁控溅射法镀膜,在装置下部设置有控制面板,可以很精确稳定的控制电压和时间,从而精确控制镀膜的厚度,使石英晶体的电极膜得到精确的控制,从而使振动效果好,且在装置内设置有转向架,可以随意改变方向。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 脉冲 磁控溅射 石英 晶体 谐振器 | ||
【主权项】:
一种基于脉冲磁控溅射法石英晶体谐振器,包括真空室(1),其特征在于:所述真空室(1)的左右两侧设置有靶(3),所述靶(3)的左侧安装有电极(2),所述电极(2)的左侧设置有电压进口(4),所述电极(2)的上下方设置有沉淀池(5),所述沉淀池(5)的下方安装有石英晶片(6),所述石英晶片(6)上设置有镀膜(16),所述真空室(1)的内部设置有转向架(10),所述转向架(10)的下方安装有转向架驱动器(12),所述真空室(1)的下方的左侧设置有出气口(7),所述真空室(1)的下方的右侧安装有进气口(11),所述转向架驱动器(12)的下方设置有控制面板(17),所述控制面板(17)上设置有数据显示器(13),所述数据显示器(13)的左下方安装有电压调节旋钮(8),所述电压调节旋钮(8)的下方设置有通电时间控制旋钮(9),所述电压调节旋钮(8)的右侧安装有电源接口(14),所述电源接口(14)的右侧设置有电压出口(15),所述控制面板(17)与电极(2)是通过电性连接。
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