[实用新型]一种镭射切割平台有效
| 申请号： | 201620413931.9 | 申请日： | 2016-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN205571737U | 公开（公告）日： | 2016-09-14 |
| 发明（设计）人： | 张亮;张少华 | 申请（专利权）人： | 环维电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/38 | 分类号： | B23K26/38;B23K26/70 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镭射切割平台，涉及镭射切割领域，包括：固定式盖板；用于向所述固定式盖板方向顶起的活动式底座，所述活动式底座位于所述固定式盖板的下方；所述活动式底座设有通过真空吸力的真空孔；所述活动式底座上还设有限高块；当所述活动式底座向所述固定式盖板方向顶起时，所述限高块的上表面和所述固定式盖板的下表面接触。本实用新型的镭射切割平台，一来增加限高块，二来也调整了活动式底座上放置载具的安装位的高度，消除了固定式盖板对PCB整板的向下压力和载具对PCB整板的向上支撑力，解决了镭射切割时造成PCB基板的分层、铜线剥离的问题，降低了产品报废的情况，从而提高了制程良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镭射 切割 平台 | ||
【主权项】：
一种镭射切割平台，其特征在于，包括：固定式盖板；用于向所述固定式盖板方向顶起的活动式底座，所述活动式底座位于所述固定式盖板的下方；所述活动式底座设有通过真空吸力的真空孔；所述活动式底座上还设有限高块；当所述活动式底座向所述固定式盖板方向顶起时，所述限高块的上表面和所述固定式盖板的下表面接触。
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