[实用新型]一种光学元件激光预处理系统

摘要

本实用新型实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置。第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面相互平行，待处理样品设置在第一反射装置的反射面与第二反射装置的反射面之间。第一反射装置与第二反射装置组成反射腔，激光光源发出的激光光束进入反射腔后，经反射腔多次反射后对待处理样品的多个预设处理点进行辐照，用以对待处理样品进行预处理。本实用新型实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。

主权项

一种光学元件激光预处理系统，其特征在于，包括激光光源、第一反射装置及第二反射装置，所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面相互平行，待处理样品设置在所述第一反射装置的反射面与所述第二反射装置的反射面之间，所述第一反射装置与所述第二反射装置之间的距离可调，所述第一反射装置、所述待处理样品以及所述第二反射装置相互独立设置，所述第一反射装置与所述第二反射装置组成反射腔，所述激光光源发出的激光光束进入所述反射腔，经所述反射腔多次反射后对所述待处理样品的多个预设处理点进行辐照，用以对所述待处理样品进行激光预处理。