[实用新型]一种垂直紫外LED芯片有效
申请号: | 201620254324.2 | 申请日: | 2016-03-30 |
公开(公告)号: | CN205428984U | 公开(公告)日: | 2016-08-03 |
发明(设计)人: | 周朝旭;张保国;甄珍珍;李晓波 | 申请(专利权)人: | 河北工业大学;同辉电子科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/10;H01L33/14;H01L33/40 |
代理公司: | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 胡安朋 |
地址: | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型一种垂直紫外LED芯片,涉及至少有一个电位跃变势垒的专门适用于光发射的半导体器件,包括N型外延层、多量子阱、P型外延层、Ni/Ag金属电流扩展层、DBR层、P电极塞、键合金属Cr层a、键合金属Au层a、键合金属Au层b、键合金属Cr层b、硅片和N电极;本实用新型采用金属电流扩展层Ni/Ag加上DBR代替现有技术中的垂直紫外LED芯片的金属反射层,克服了现有技术中金属反射层对光线的吸收,提高了垂直紫外LED芯片的发光亮度。 | ||
搜索关键词: | 一种 垂直 紫外 led 芯片 | ||
【主权项】:
一种垂直紫外LED芯片,其特征在于:包括N型外延层、多量子阱、P型外延层、Ni/Ag金属电流扩展层、DBR层、P电极塞、键合金属Cr层a、键合金属Au层a、键合金属Au层b、键合金属Cr层b、硅片和N电极;上述各层紧接的顺序是:N型外延层紧接多量子阱层,多量子阱层紧接P型外延层,P型外延层紧接Ni/Ag金属电流扩展层,Ni/Ag金属电流扩展层紧接DBR层,DBR层紧接键合金属Cr层a,键合金属Cr层a紧接键合金属Au层a,键合金属Au层a紧接键合金属Au层b,键合金属Au层b紧接键合金属Cr层b,键合金属Cr层b紧接硅片,P电极塞制备在Ni/Ag金属电流扩展层上又嵌入在DBR层中,并且P电极塞的厚度和DBR层的厚度相同,N电极则紧接N型外延层上面中部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于河北工业大学;同辉电子科技股份有限公司,未经河北工业大学;同辉电子科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620254324.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于植物生长的光源
- 下一篇:一种多晶硅太阳能电池片的清洗装置