[实用新型]一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极有效
申请号: | 201620216458.5 | 申请日: | 2016-03-21 |
公开(公告)号: | CN205556769U | 公开(公告)日: | 2016-09-07 |
发明(设计)人: | 杨元才;钱鹏亮;郑战伟;朱振东;林晨;周通;谭新 | 申请(专利权)人: | 上海福宜真空设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;H01J37/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201821 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极,包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件,其中,在进水管上端设置一个进水轴,所述进水轴与水接头相连接,进水轴与进水管相通,在进水轴的上端设置一个旋转气缸。所述旋转气缸与进水轴通过设置联动法兰实现传动。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本专利提供了一种磁路可以转动的旋转阴极,磁路方向转变时,靶原子轰击的方向相应改变,就不需要在阴极和基底之间添加挡板机构,可以简化镀膜设备并节省设备空间。 | ||
搜索关键词: | 一种 溅射 磁路 组件 可以 转动 旋转 阴极 | ||
【主权项】:
一种预溅射时磁路组件可以转动的旋转阴极,包括进水管以及设置在进水管外部的磁路组件,其特征在于:在进水管上端设置一个进水轴,所述进水轴与水接头相连接,进水轴与进水管相通,在进水轴的上端设置一个旋转气缸。
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