[实用新型]解离率监控装置、等离子清洗单元以及等离子设备有效
申请号: | 201620180334.6 | 申请日: | 2016-03-09 |
公开(公告)号: | CN205398726U | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
发明(设计)人: | 王满;廖国华;马方;储明明;王杰;王宜申 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/52 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种解离率监控装置、等离子清洗装置以及等离子设备,涉及液晶显示制造领域,可以解决现有等离子设备中对解离率缺少监控的问题,给等离子解离部件更换以及设备维护保养提供准确科学数据,确保工艺镀膜腔室清洗效果和产品品质稳定性。本实用新型的解离率监控装置,用于监控等离子设备的解离率,包括:电源、等离子采集器、电流表和线材,所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路;等离子采集器包括:两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。 | ||
搜索关键词: | 解离 监控 装置 等离子 清洗 单元 以及 设备 | ||
【主权项】:
一种解离率监控装置,用于监控等离子设备的解离率,其特征在于,包括:电源、等离子采集器、电流表和线材,所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路;所述等离子采集器包括:两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的