[实用新型]解离率监控装置、等离子清洗单元以及等离子设备有效

专利信息
申请号: 201620180334.6 申请日: 2016-03-09
公开(公告)号: CN205398726U 公开(公告)日: 2016-07-27
发明(设计)人: 王满;廖国华;马方;储明明;王杰;王宜申 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C16/513 分类号: C23C16/513;C23C16/52
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种解离率监控装置、等离子清洗装置以及等离子设备,涉及液晶显示制造领域,可以解决现有等离子设备中对解离率缺少监控的问题,给等离子解离部件更换以及设备维护保养提供准确科学数据,确保工艺镀膜腔室清洗效果和产品品质稳定性。本实用新型的解离率监控装置,用于监控等离子设备的解离率,包括:电源、等离子采集器、电流表和线材,所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路;等离子采集器包括:两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。
搜索关键词: 解离 监控 装置 等离子 清洗 单元 以及 设备
【主权项】:
一种解离率监控装置,用于监控等离子设备的解离率,其特征在于,包括:电源、等离子采集器、电流表和线材,所述电源、等离子采集器和电流表通过所述线材相互串联形成闭合电路;所述等离子采集器包括:两个极板和设置于两个极板之间的绝缘物质。
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