[实用新型]一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备有效

专利信息
申请号: 201620144366.0 申请日: 2016-02-26
公开(公告)号: CN205382204U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 史旭 申请(专利权)人: 纳峰真空镀膜(上海)有限公司
主分类号: C23C14/00 分类号: C23C14/00
代理公司: 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 代理人: 黄美英
地址: 201700 上海市青浦区青*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备,包括底座、真空镀膜设备和串联式蒸镀源,所述底座的下方均布若干滚轮;所述真空镀膜设备设置在所述底座上;所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上;所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若干蒸发源,每个所述蒸发源均包括支撑板、绝缘支撑座、两个电极、加热片、坩埚、坩埚挡板和四个支柱。本实用新型的纳米防指纹薄膜蒸镀设备,可以实现在同一台镀膜设备中完成磁控溅射真空镀膜和纳米防指纹薄膜蒸镀工艺。
搜索关键词: 一种 纳米 指纹 薄膜 设备
【主权项】:
一种纳米防指纹薄膜蒸镀设备,其特征在于,包括底座、真空镀膜设备和串联式蒸镀源,其中:所述底座的下方均布若干滚轮;所述真空镀膜设备设置在所述底座上;所述串联式蒸镀源设置在所述真空镀膜设备的外壁面上;所述串联式蒸镀源包括安装法兰、蒸发源水冷进电口、蒸发源水冷出电口和若干蒸发源,所述安装法兰固定在所述真空镀膜设备的外壁面上;所述若干蒸发源从上至下依次设置在所述安装法兰的后表面上,且所述若干蒸发源依次串联连接;每个所述蒸发源的外部均设置有蒸发源挡板;所述蒸发源水冷进电口和蒸发源水冷出电口一上一下地设置在所述安装法兰的前表面上,所述蒸发源水冷进电口与位于所述安装法兰的后表面的最上方的蒸发源电连接,所述蒸发源水冷出电口与位于所述安装法兰的后表面的最下方的蒸发源电连接;每个所述蒸发源均包括支撑板、绝缘支撑座、两个电极、加热片、坩埚、坩埚挡板和四个支柱,所述支撑板垂直设置;所述绝缘支撑座设置在所述支撑板的前表面的下部;所述两个电极分别设置在所述绝缘支撑座上,且所述两个电极一一对应地位于所述支撑板的左右侧;所述加热片跨接在所述两个电极之间,且位于所述绝缘支撑座的前方;所述坩埚设置在所述加热片的中部;所述坩埚挡板设置在所述坩埚的上端;所述四个支柱一一对应地设置在所述支撑板的后表面的四个角。
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