[实用新型]化学机械研磨装置有效
申请号: | 201620142970.X | 申请日: | 2016-02-25 |
公开(公告)号: | CN205465663U | 公开(公告)日: | 2016-08-17 |
发明(设计)人: | 安俊镐;金真圭;金东旻 | 申请(专利权)人: | K.C.科技股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/015 | 分类号: | B24B37/015;B24B37/20;B24B55/02 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人: | 朱健;陈国军 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本实用新型涉及一种化学机械研磨装置,化学机械研磨装置包括:研磨垫,其在化学机械研磨工艺中与基板接触;温度调节部,其以间隔的形式设置于研磨垫的上部,并以所述研磨垫的上面存在的流体为媒介调节研磨垫的表面温度,所述化学机械研磨装置能够均匀地调节研磨垫的温度。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】:
一种化学机械研磨装置,其包括:研磨垫,其在化学机械研磨工艺中与基板接触;温度调节部,其以间隔的形式设置于所述研磨垫的上部,并以所述研磨垫的上面存在的流体为媒介调节所述研磨垫的表面温度。
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