[实用新型]半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统有效
| 申请号: | 201620023544.4 | 申请日: | 2016-01-11 |
| 公开(公告)号: | CN205501419U | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
| 发明(设计)人: | 尹胜永 | 申请(专利权)人: | 无锡银星科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 张静轩 |
| 地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型公开了一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统。以检测向加热器发热线圈及接地配线流入的RF信号为基准,在诊断部与正常信号范围进行比较,并判断加热器是否异常,选择性由RF滤波器传送来的累积误差数据和设定的误差范围信号进行比较,也可判断加热器是否异常。加热器驱动电压是由电源供应部通过RF滤波器,施加给加热器上可供应稳定的电压。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 薄膜 沉积 备用 加热器 监控 系统 | ||
【主权项】:
一种半导体薄膜沉积设备用加热器监控系统,其特征在于:包括,RF供应部、工序室、RF滤波器、电源供应部、诊断部;所述工序室内设置有花洒、加热器,所述花洒与RF供应部连接,所述加热器内部设置有加热线圈,所述加热线圈与RF滤波器连接;所述RF滤波器与电源供应部连接,所述电源供应部通过RF滤波器为加热器供电;所述诊断部与RF滤波器连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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