[发明专利]一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法，以氧化还原石墨片为石墨烯溅射的靶材元素，借助双阴极辉光等离子放电作用在不同基体表面溅射沉积石墨烯薄膜的方法。本发明中石墨烯在溅射成膜过程中由于两个阴极的等离子同时产生作用，增强了体系的辉光放电成膜效率。因此，所得石墨烯薄膜质量较好，性能较为稳定。本发明对基体的材料及形状具有较大的选择性，可以在不同形状及不同材料的基体上制备石墨烯薄膜，所制备的石墨烯薄膜较为均匀，而且可以大面积量制备。

主权项

1.一种石墨烯透明电极薄膜的制备方法，其特征在于：以氧化还原石墨片为石墨烯溅射的靶材，借助双阴极辉光等离子放电作用在基体表面溅射沉积石墨烯薄膜，其具体步骤如下：(1)将基体用丙酮进行超声清洗，将预处理好的基体放入等离子溅射炉体内的载物台上，并用保温套罩住，基体上方的氧化还原石墨片为源极靶材，基体与靶材之间的间距为工件的极间距；(2)在基片表面形成一层等离子辉光放电，同时靶材表面也形成一层等离子辉光放电区，由两层等离子辉光放电区交叠增强成膜效率；(3)打开等离子溅射成膜设备以及与其配套的冷水泵等，使用机械泵对镀膜炉体抽压，使炉内保持高真空状态；(4)向炉内充入氩气至15‑25Pa，重新抽到极限真空度，如此往复2‑3次，以尽可能排除炉内的空气；(5)充入氩气，打开工件电源施加电压，对试样进行预轰击；(6)预轰击之后调至工作气压，将源极电压调整到试验值，使工件和源极达到工作温度，稳定各工艺参数并开始保温10‑30min；(7)依次关闭源极电源、阴极电源和气源，将炉内抽到极限真空，冷却到室温出炉。