[发明专利]一种偏折式激光回返光二次利用装置在审
申请号: | 201611247486.4 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106772968A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 蔡磊;刘兴胜 | 申请(专利权)人: | 镭蒙(苏州)微光学科技有限公司 |
主分类号: | G02B17/08 | 分类号: | G02B17/08 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司61211 | 代理人: | 胡乐 |
地址: | 215104 江苏省苏州市吴中经济开发*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提出一种偏折式激光回返光二次利用装置,旨在提升半导体激光器应用系统的能效比。该装置包括在激光光源附近设置的棱镜组,在棱镜组的后方并避开激光光源设置有反射组,使得激光光源在被照射元件表面产生的回返光经过棱镜组发生趋向光轴的折射、再入射至反射组,反射组将激光反射后从棱镜组出射至被照射元件表面。本发明有效实现了二次利用反射能量,提升系统的能效比;结构模块化,便于拆卸安装和移植;体积小,重量轻。 | ||
搜索关键词: | 一种 偏折式 激光 回返 二次 利用 装置 | ||
【主权项】:
一种偏折式激光回返光二次利用装置,其特征在于:包括在激光光源附近设置的棱镜组,在棱镜组的后方并避开激光光源设置有反射组,使得激光光源在被照射元件表面产生的回返光经过棱镜组发生趋向光轴的折射、再入射至反射组,反射组将激光反射后从棱镜组出射至被照射元件表面。
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