[发明专利]用于测量对象的位置的光学装置有效
申请号: | 201611179066.7 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN106895780B | 公开(公告)日: | 2019-08-20 |
发明(设计)人: | 文森特·克罗凯特;珍-弗朗索瓦·阿勒芒;蒂博·维埃耶 | 申请(专利权)人: | 巴黎科学与文学联大-拉丁校区;国家科学研究中心;皮埃尔和玛利居里大学(巴黎第六大学);狄德罗-巴黎第七大学 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 杨生平;任庆威 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种用于测量对象(B)沿着第一轴(z)的位置的光学装置(1),其包括:光学成像系统(5),其包括用于收集被对象(B)散射的光辐射的物镜(53);透射掩膜(8),其至少具有第一小孔(81,83)和第二小孔(82,84),分离布置(9),其用于沿着垂直于第一轴和第二轴的第三轴(y)而在相反的方向上将来辐射的第一部分(R1)与辐射的第二部分(R2)分离;以及检测器(6),其具有检测器平面(61),检测器(6)适合于生成包括第一光斑(S1)和第二光斑(S2)的图像,其中,对象(B)沿着第一轴(z)相对于成像系统的对象平面的位置变化引起第一光斑(S1)和第二光斑(S2)沿着第二轴(x)相对于彼此的位置变化。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 对象 位置 光学 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于测量对象(B)沿着第一轴(z)的位置的光学装置(1),所述对象(B)经受由光源(2,21,22)发射的光辐射,所述光学装置(1)包括:‑光学成像系统(5),其包括用于收集被对象(B)散射的光辐射的物镜(53),所述物镜(53)具有平行于第一轴(z)延伸的光轴(O),‑透射掩膜(8),其至少具有第一小孔(81,83)和第二小孔(82,84),第一小孔和第二小孔沿着垂直于第一轴(z)的第二轴(x)相互间隔开,所述透射掩膜(8)被布置成从而让被对象(B)散射的辐射的第一部分(R1)和辐射的第二部分(R2)分别地通过第一小孔和第二小孔,同时阻挡未被对象散射的由光源发射的辐射的一部分(R3),‑分离布置(9),其用于沿着垂直于第一轴和第二轴的第三轴(y)而在相反的方向上将来辐射的第一部分(R1)与辐射的第二部分(R2)分离,以及‑检测器(6),其具有检测器平面(61),所述检测器(6)适合于生成包括第一光斑(S1)和第二光斑(S2)的图像,第一光斑(S1)和第二光斑(S2)表示撞击检测器平面(61)的辐射的已分离的第一部分(R1)和第二部分(R2),其中,对象(B)沿着第一轴(z)相对于成像系统的对象平面的位置变化引起第一光斑(S1)和第二光斑(S2)沿着第二轴(x)相对于彼此的位置变化。
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