[发明专利]缺陷拍摄装置及方法、膜制造装置及方法、缺陷检查方法有效
申请号: | 201611142936.3 | 申请日: | 2016-12-12 |
公开(公告)号: | CN107024482B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 尾崎麻耶 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G01N21/896 | 分类号: | G01N21/896;G01N21/89;G01N21/88 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统、膜制造装置、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查方法以及膜的制造方法,能够整合不同的检查系列,削减检查系列数。本发明的一实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置用于进行具有偏振特性的膜的缺陷检查,具备:光照射机构,其向膜的拍摄区域照射光;拍摄机构,其将膜的拍摄区域拍摄为二维图像;第一偏振滤波器,其以与膜形成正交偏振状态的方式,配置在光照射机构与膜的拍摄区域之间;搬运机构,其相对于光照射机构、拍摄机构以及偏振滤波器沿搬运方向Y相对地搬运膜,拍摄区域包括在搬运方向被分割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域,第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄区域之间。 | ||
搜索关键词: | 缺陷 拍摄 装置 方法 制造 检查 | ||
【主权项】:
一种缺陷检查用拍摄装置,用于进行具有偏振特性的膜的缺陷检查,其中,所述缺陷检查用拍摄装置具备:光照射机构,其向所述膜的拍摄区域照射光;拍摄机构,其将所述膜的所述拍摄区域拍摄为二维图像;第一偏振滤波器,其以与所述膜形成正交偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式,配置在所述光照射机构与所述膜的所述拍摄区域之间、或者所述膜的所述拍摄区域与所述拍摄机构之间;以及搬运机构,其相对于所述光照射机构、所述拍摄机构以及所述第一偏振滤波器沿搬运方向相对地搬运所述膜,所述拍摄区域包括在所述搬运方向上被分割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域,所述第一偏振滤波器配置在所述光照射机构与所述第一拍摄区域之间、或者所述第一拍摄区域与所述拍摄机构之间。
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