[发明专利]一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用有效
申请号: | 201611105094.4 | 申请日: | 2016-12-05 |
公开(公告)号: | CN108147983B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 杨国强;袁华;许箭;彭晓曼;王亮乾;王双青 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | C07C309/04 | 分类号: | C07C309/04;C07C303/32;C07D333/18;G03F7/004;G03F7/20 |
代理公司: | 11535 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 刘元霞;牛艳玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用。所述硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶是立体不对称的无定形小分子化合物,具有较高的熔点和玻璃化转变温度(熔点均高于100℃),能够满足光刻技术要求,在高温烘烤中薄膜结构无变化。该类化合物可以单独或与其他光刻胶、光致产酸剂、交联剂等复配成正性或负性光刻胶,在基片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可用于365nm光刻、248nm光刻、193nm光刻、极紫外光刻及电子束光刻等现代光刻技术中,尤其适用于极紫外光刻工艺中。 | ||
搜索关键词: | 光刻胶 分子玻璃 硫鎓盐 多酚 光刻 键合 制备方法和应用 熔点 极紫外光刻 光刻技术 小分子化合物 玻璃化转变 电子束光刻 负性光刻胶 光刻胶配方 光刻胶涂层 光致产酸剂 薄膜结构 高温烘烤 厚度均匀 不对称 交联剂 无变化 无定形 旋涂法 复配 可用 正性 | ||
【主权项】:
1.通式(I)或通式(II)化合物,/n
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- 杨国强;袁华;许箭;彭晓曼;王亮乾;王双青 - 中国科学院化学研究所
- 2016-12-05 - 2020-01-31 - C07C309/04
- 本发明涉及一类硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶及其制备方法和应用。所述硫鎓盐键合苯多酚型分子玻璃光刻胶是立体不对称的无定形小分子化合物,具有较高的熔点和玻璃化转变温度(熔点均高于100℃),能够满足光刻技术要求,在高温烘烤中薄膜结构无变化。该类化合物可以单独或与其他光刻胶、光致产酸剂、交联剂等复配成正性或负性光刻胶,在基片上通过旋涂法可制得厚度均匀的光刻胶涂层。该光刻胶配方可用于365nm光刻、248nm光刻、193nm光刻、极紫外光刻及电子束光刻等现代光刻技术中,尤其适用于极紫外光刻工艺中。
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