[发明专利]一种基于量子电导效应的忆阻器及其制备调制方法及应用在审

专利信息
申请号: 201611102484.6 申请日: 2016-12-05
公开(公告)号: CN106654007A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 孙华军;何维凡;钟姝婧;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 华中科技大学专利中心42201 代理人: 赵伟
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于量子电导效应的忆阻器及其制备调制方法及应用,忆阻器包括上电极、功能层和下电极,为MIM的crossbar结构;通过调控氩气和氧气的比例,制得具有不同厚度和氧空位的功能层材料;在调制中采用电压扫描或脉冲扫描的方法精确调控功能层的导电丝形态,将导电丝的尺寸控制到原子级,得到单位电导值整数倍的不连续电导行为,实现忆阻器电导量子化;通过提取出忆阻器的各量子态,把不同的量子态对应的阻值作为器件存储的不同阻态,实现多值存储;并可应用忆阻器模拟神经元突触的功能;该忆阻器以整数倍变化的电导克服了电导态的离散变化导致的阻值漂移对器件应用的影响,实现了工作电流更小,存储密度更大,读取速度更快,掉电不丢失的量子存储器件。
搜索关键词: 一种 基于 量子 电导 效应 忆阻器 及其 制备 调制 方法 应用
【主权项】:
一种基于量子电导效应的忆阻器,其特征在于,所述忆阻器由呈阵列形式的多个器件单元构成;各所述器件单元包括上电极、功能层和下电极;所述功能层夹于上、下电极之间形成三明治结构,功能层与上、下电极共同形成crossbar结构;所述上电极采用惰性电极或活性电极、下电极采用惰性电极;所述活性电极采用Ag或Cu,惰性电极采用Pt或Ti;所述功能层采用HfOx材料,厚度为15nm~25nm;其中,1.6<x<2.4;通过功能层材料的氧空位来控制功能层的单原子导电丝的形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611102484.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top