[发明专利]一种双介质层太阳光谱选择性吸收薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611100211.8 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN108611610A 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 李世杰;米菁;郝雷;于庆河;杜淼;杨海龄;刘晓鹏;蒋利军 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08;C23C14/10;F24S70/25;F24S70/225
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 刘秀青;熊国裕
地址: 100088 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种双介质层太阳光谱选择性吸收薄膜及其制备方法。该薄膜由沉积在基底上的金属红外高反射层、吸收层和双介质减反射层依次组成,其中金属红外高反射层为纯金属Al、Cu或Cr中的一种;吸收层为金属和陶瓷复合材料构成的多亚层结构;双介质减反射层包括第一介质减反射层和第二介质减反射层,第一介质减反射层为CrAlO或Cr2O3,第二介质减反射层沉积在第一介质减反射层之上,为SiAlO、SiAlN、SiO2、Si3N4中的一种。其制备方法为:采用直流或中频反应溅射制备薄膜,针对不同的膜层材料通过控制气体流量和溅射功率控制其成分和含量。本发明的薄膜具有结构简单、光学性能优良、耐候性强等特点,尤其适用于平板型太阳能集热器。
搜索关键词: 介质减反射层 制备 薄膜 太阳光谱选择性 红外高反射层 减反射层 双介质层 吸收薄膜 双介质 吸收层 金属 沉积 平板型太阳能集热器 控制气体流量 陶瓷复合材料 中频反应溅射 采用直流 光学性能 溅射功率 膜层材料 亚层结构 纯金属 耐候性 基底
【主权项】:
1.一种双介质层太阳光谱选择性吸收薄膜,其特征在于,该薄膜由沉积在基底上的金属红外高反射层、吸收层和双介质减反射层依次组成,其中金属红外高反射层为纯金属Al、Cu或Cr中的一种;吸收层为金属陶瓷复合材料构成的多亚层结构;双介质减反射层包括第一介质减反射层和第二介质减反射层,第一介质减反射层为CrAlO或Cr2O3,第二介质减反射层沉积在第一介质减反射层之上,为SiAlO、SiAlN、SiO2、Si3N4中的一种。
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