[发明专利]一种掩膜板、掩膜板组件及显示面板在审
申请号: | 201611069720.9 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106597802A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 陈永胜 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种掩膜板、掩膜板组件及显示面板,所述掩膜板包括平板本体,所述平板本体上设有开口,所述开口用于形成相邻主像素中相邻的同类子像素;其中,所述主像素包括三种相互分离的子像素,并且至少包括两个同类的子像素。所述主像素中偶数行的每个主像素由奇数行每个主像素垂直翻转180°形成;所述主像素中偶数列的每个主像素由奇数列每个主像素水平翻转180°形成。所述掩膜板的开口数量有多个,且沿行和列方向依次排列,每个所述开口供上下左右相邻的四个所述主像素的四个同类子像素共用,且所有开口对应的子像素种类相同。通过上述方式,本发明能够提高掩膜板的制作良率以及提高显示面板的解析度。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 组件 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,其特征在于,包括,平板本体,所述平板本体上设有开口,所述开口用于形成相邻主像素中相邻的同类子像素;其中,所述主像素包括三种相互分离的子像素,并且至少包括两个同类的子像素。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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