[发明专利]LDI曝光设备以及系统在审
| 申请号： | 201611061210.7 | 申请日： | 2016-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN106353975A | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 祝锁 | 申请（专利权）人： | 天津津芯微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人： | 马维丽 |
| 地址： | 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种LDI曝光设备以及系统，涉及印制电路板图形转移技术领域，包括曝光台、真空抽滤装置与密闭装置；曝光台用于承载真空抽滤装置与密闭装置；真空抽滤装置用于抽去密闭装置内部的空气以达到预定真空度；密闭装置用于隔绝空气，保证密闭装置内的曝光目的物在曝光过程中处于真空状态；密闭装置由透光材料制成。通过制造真空的环境，使曝光目的物在曝光过程中处于真空的状态，提高了油墨中自由基的利用率，使自由基充分的引发油墨产生聚合反应，实现有效的改善油墨表面的聚合程度，达到明显提高油墨表面的光泽度，且设计结构简单，减少了曝光设备的造价。 | ||
| 搜索关键词： | ldi 曝光 设备 以及 系统 | ||
【主权项】：
一种LDI曝光设备，其特征在于，包括：曝光台、真空抽滤装置与密闭装置；所述曝光台用于承载所述真空抽滤装置与所述密闭装置；所述真空抽滤装置，用于抽去所述密闭装置内部的空气以达到预定真空度；所述密闭装置用于隔绝空气，保证所述密闭装置内的曝光目的物在曝光过程中处于真空状态；所述密闭装置由透光材料制成。
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