[发明专利]一种半色调掩膜及显示面板、显示器有效
| 申请号： | 201611049226.6 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN106371283B | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 叶岩溪 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/32 | 分类号： | G03F1/32;G02F1/13 |
| 代理公司： | 44280 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 黄瑜 |
| 地址： | 518006 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半色调掩膜及显示面板、显示器。该半色调掩膜包括衬底、半透光区及全透光区；半透光区及全透光区相邻的设置于衬底上；半透光区邻接全透光区的一侧具有透光率大于半透光区的主体部分的全透光图案，以使得照射在半透光区的预定波长范围的光具有至少两种不同的透光率；全透光区邻接半透光区的一侧具有透光率小于全透光区的主体部分的半透光图案，以使得照射在全透光区的预定波长范围的光具有至少两种不同的透光率。通过这种方式，能有效的弱化半透光区及全透光区邻接处的边界效应，从而减小该邻接处的曝光量变异，进而改善由曝光量变异产生的有机膜凸起的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 色调 显示 面板 显示器 | ||
【主权项】：
1.一种半色调掩膜，其特征在于，包括：/n衬底、半透光区及全透光区；所述半透光区及所述全透光区相邻的设置于所述衬底上；/n所述半透光区邻接所述全透光区的一侧具有透光率大于所述半透光区的主体部分的全透光图案，以使得照射在所述半透光区的预定波长范围的光具有至少两种不同的透光率；/n所述全透光区邻接所述半透光区的一侧具有透光率小于所述全透光区的主体部分的半透光图案，以使得照射在所述全透光区的预定波长范围的光具有至少两种不同的透光率；/n其中，所述半透光图案的透光率大于或等于所述半透光区的所述主体部分的透光率。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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