[发明专利]一种氧化物基涂层低辐射玻璃

摘要

本发明涉及一种氧化物基涂层低辐射玻璃。喷雾热解法法被认为是在玻璃基板上镀制各种功能薄膜最有效的一种方法。SP法是将含金属离子的溶液雾化后,喷向热玻璃基板,随着溶剂的挥发,溶质在基板上反应热分解反应而形成薄膜的过程。镀膜溶液经过压缩空气雾化成小液滴,在反应炉内经过蒸发干燥,喷向离喷嘴一定距离的基板上。基板用电炉加热,用热电偶测量基板的温度。反应炉外侧也有加热装置来控制其炉内部温度。有时为了改善雾化,使用超声波的方法。喷雾热解法与其它玻璃镀膜方法相比,具有其独特的优势设备简单,反应易于控制对真空、气氛等实验条件的要求不高原料的选择范围广,成分、组成的调整简易所镀膜层与基板结合牢固,性能良好适用于大面积镀膜,尤其适合玻璃在线镀膜。

主权项

1.一种氧化物基涂层低辐射玻璃，其特征在于：本发明氧化物基涂层低辐射玻璃的具体加工工艺如下：溶液配制：配制镀膜溶胶的前驱物一般为氯化物、金属的醋酸盐、乙酞丙酮化物等；溶胶的溶剂通常采用乙醇、丁醇或水等,溶剂应能使溶质有较大的溶解度,在一定温度下的热蒸发速率要大,能迅速挥发掉,使溶胶能在基板上沉积、分解和成膜,并且溶剂的挥发吸收的热要小；在溶液的配制过程中,有时为了防止水解、沉淀等现象,还要加入稳定剂；雾化：镀膜溶胶雾化的均匀性对所制备的薄膜性能有很大影响,雾化程度不同,还会对基板温度造成不同程度的影响；法对雾化的要求是气液比不能过大,以减少气流对基板温度的影响液滴微粒直径尺寸要合适液滴出口速度必须足够大,以满足液滴到达基板并进行平化；液体雾化的方法有很多,在法中喷枪和超声是实现镀膜溶液雾化的常用手段；蒸发干燥：溶胶雾化后成为小液滴在反应炉内运动,小液滴的质量在减小,速度也在发生变化,通过对这一过程的分析研究,可得出不同大小的液滴最后到达基板表面时的速度以及液滴中溶剂含量,从而达到控制镀膜质量的目的；液滴在反应炉内运行过程中的干燥取决于在炉内飞行的时间和蒸发干燥速率；在法镀膜中,玻璃基板表面温度是至关重要的因素；玻璃基板温度高,能增加沉积速率,但是基板温度必须低于玻璃的软化点；许多研究文献都对基板温度对膜性质的影响作了详细的研究；基板温度较高时,玻璃表面碱金属离子的扩散速率的增加,会对镀膜层的性质产生影响；另外,基板温度对薄膜的晶体生长机制、表面形态、薄膜的光学性质如透光度、颜色、电导率等都有影响。