[发明专利]具有辅助栅极的非易失性存储单元结构及其存储器数组在审

专利信息
申请号: 201611041736.9 申请日: 2016-11-24
公开(公告)号: CN107393924A 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: 曹沐潆;陈纬仁 申请(专利权)人: 力旺电子股份有限公司
主分类号: H01L27/11521 分类号: H01L27/11521
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 江耀纯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开了一种非易失性存储器数组,包含多条字线,沿着第一方向延伸、多条位线,沿着第二方向延伸以及多条源极线。各非易失性存储单元包含P型金氧半选择晶体管以及与P型金氧半选择晶体管串联的P型金氧半浮动栅极晶体管。各字线电连接至P型金氧半选择晶体管的选择栅极。各位线电连接至各非易失性存储单元中的P型金氧半浮动栅极晶体管的掺杂区。各源极线电连接至P型金氧半选择晶体管的掺杂区。
搜索关键词: 具有 辅助 栅极 非易失性 存储 单元 结构 及其 存储器 数组
【主权项】:
一种非易失性存储器数组,其特征在于,包含:多个非易失性存储单元,其中各非易失性存储单元包含:一半导体衬底,其中具有一第一N型阱区;一第一氧化物定义区及一第二氧化物定义区,设置在所述半导体衬底内;一P型金氧半选择晶体管,设置在所述第一氧化物定义区上,其中所述P型金氧半选择晶体管包含一选择栅极、一第一P+源极掺杂区,位于所述第一N型阱区,以及一第二P+源极掺杂区与所述第一P+源极掺杂区分隔开;一P型金氧半浮动栅极晶体管,与所述P型金氧半选择晶体管串联,并且设置在所述第一氧化物定义区上,其中所述P型金氧半浮动栅极晶体管包含一浮动栅极,覆盖所述第一氧化物定义区、所述第二P+源极掺杂区,以及一第三P+源极掺杂区与所述第二P+源极掺杂区分隔开,其中所述P型金氧半浮动栅极晶体管是所述非易失性存储单元的电荷贮存元件;以及一辅助栅极,自所述浮动栅极凸出延伸至所述第二氧化物定义区的一边缘,使得所述辅助栅极与所述第二氧化物定义区电容耦合,其中所述辅助栅极与所述浮动栅极由单层多晶硅一体构成;多条字线,沿着一第一方向延伸,其中各所述字线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半选择晶体管的所述选择栅极;多条位线,沿着一第二方向延伸,其中各所述位线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半浮动栅极晶体管的所述第三P+源极掺杂区;以及多条源极线,其中所述源极线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半选择晶体管的所述第一P+源极掺杂区。
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