[发明专利]具有辅助栅极的非易失性存储单元结构及其存储器数组在审
| 申请号: | 201611041736.9 | 申请日: | 2016-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN107393924A | 公开(公告)日: | 2017-11-24 |
| 发明(设计)人: | 曹沐潆;陈纬仁 | 申请(专利权)人: | 力旺电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/11521 | 分类号: | H01L27/11521 |
| 代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 | 代理人: | 江耀纯 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种非易失性存储器数组,包含多条字线,沿着第一方向延伸、多条位线,沿着第二方向延伸以及多条源极线。各非易失性存储单元包含P型金氧半选择晶体管以及与P型金氧半选择晶体管串联的P型金氧半浮动栅极晶体管。各字线电连接至P型金氧半选择晶体管的选择栅极。各位线电连接至各非易失性存储单元中的P型金氧半浮动栅极晶体管的掺杂区。各源极线电连接至P型金氧半选择晶体管的掺杂区。 | ||
| 搜索关键词: | 具有 辅助 栅极 非易失性 存储 单元 结构 及其 存储器 数组 | ||
【主权项】:
一种非易失性存储器数组,其特征在于,包含:多个非易失性存储单元,其中各非易失性存储单元包含:一半导体衬底,其中具有一第一N型阱区;一第一氧化物定义区及一第二氧化物定义区,设置在所述半导体衬底内;一P型金氧半选择晶体管,设置在所述第一氧化物定义区上,其中所述P型金氧半选择晶体管包含一选择栅极、一第一P+源极掺杂区,位于所述第一N型阱区,以及一第二P+源极掺杂区与所述第一P+源极掺杂区分隔开;一P型金氧半浮动栅极晶体管,与所述P型金氧半选择晶体管串联,并且设置在所述第一氧化物定义区上,其中所述P型金氧半浮动栅极晶体管包含一浮动栅极,覆盖所述第一氧化物定义区、所述第二P+源极掺杂区,以及一第三P+源极掺杂区与所述第二P+源极掺杂区分隔开,其中所述P型金氧半浮动栅极晶体管是所述非易失性存储单元的电荷贮存元件;以及一辅助栅极,自所述浮动栅极凸出延伸至所述第二氧化物定义区的一边缘,使得所述辅助栅极与所述第二氧化物定义区电容耦合,其中所述辅助栅极与所述浮动栅极由单层多晶硅一体构成;多条字线,沿着一第一方向延伸,其中各所述字线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半选择晶体管的所述选择栅极;多条位线,沿着一第二方向延伸,其中各所述位线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半浮动栅极晶体管的所述第三P+源极掺杂区;以及多条源极线,其中所述源极线电连接至各所述多个非易失性存储单元中的所述P型金氧半选择晶体管的所述第一P+源极掺杂区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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