[发明专利]间接式高温氟化氢离子气体清洗反应剂、工艺及装置

摘要

本发明提供一种间接式高温氟化氢离子气体清洗反应剂，由以固态CrF₂为主的化合物、金属Cr以及固态氟化氢铵按照质量比(3.0‑20.0):(80.0‑97.0):(0.3‑3.0)组成复方反应剂。本发明还提供一种清洗装置及清洗工艺。本发明通过创新清洗反应剂以及设备和工艺，使用以固态金属氟化物CrF₂为主的化合物，金属Cr及固态氟化氢铵三种反应剂组成复方反应剂，反应剂在密封高温反应器内同氢气反应产生氟化氢气体，并经由所产生的氟化氢气体清除部件表面的氧化物，可实现防范反应气体泄露、以及可同时通过反应器内气体压力变化的操作进行高效氟化氢离子气体清洗以及后续高温真空清除工件表面残余氟化物的目的，保障使用安全和创造良好的工作环境。

主权项

1.一种间接式高温氟化氢离子气体清洗装置，其特征在于：包括密封炉壳(1)及设于密封炉壳(1)内的密封反应器(5)，所述密封炉壳(1)为上端开口的腔体结构，且上端开口可通过炉壳密封盖(11)密封，密封炉壳(1)内设有电加热炉丝(3)，密封炉壳(1)上设有炉壳氩气入口(12)、炉壳排气口(18)、炉壳进气口(19)，密封炉壳(1)设有用于与外部真空泵连接的炉壳真空泵接口(4)，所述密封反应器(5)为上端开口的腔体结构，且上端开口可通过反应器密封盖(13)密封，反应器密封盖(13)上设有反应器排气口(14)和反应器氩气入口(15)，密封反应器(5)与密封炉壳(1)内腔之间可通过气体两通阀(17)连通，密封反应器(5)上设有反应器真空泵接口(6)、反应器氢气入口(7)，密封反应器(5)内设有用于安放清洗反应剂和待清洗工件(16)的吊装装置(9)。