[发明专利]一种改善填孔不饱满的盲孔开窗制作方法有效
申请号: | 201611027703.9 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN106455370B | 公开(公告)日: | 2019-01-01 |
发明(设计)人: | 陈则鸣;董猛;荣孝强 | 申请(专利权)人: | 深圳崇达多层线路板有限公司 |
主分类号: | H05K3/46 | 分类号: | H05K3/46 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 冯筠 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新桥横岗下工*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种改善填孔不饱满的盲孔开窗制作方法,包括对多个基板进行层压后,使用X‑ray打靶机打内层靶孔;对打完内层靶孔的板进行图形制作,使用开窗挡点比盲孔孔径单边大0.03mm至0.06mm的菲林进行曝光,并制作盲孔开窗;对盲孔开窗后的板进行激光镭射打孔;对板进行填孔电镀;线路图形对位使用开窗时的靶,进行图形蚀刻;正常制作后续工序。本发明通过缩小盲孔开窗大小,解决填孔不饱满问题,在通孔与盲孔共存时,图形使用盲孔对位孔对位,优先保证盲孔品质,从而可以避免盲孔与pad相切位置pad被蚀刻掉的品质问题,大大减少制作外层图形时因盲孔位贴膜封孔不良造成的pad蚀刻报废,节约了成本,降低了报废。 | ||
搜索关键词: | 一种 改善 填孔不 饱满 开窗 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种改善填孔不饱满的盲孔开窗制作方法,其特征在于,包括以下步骤:对多个基板进行层压后,使用X‑ray打靶机打内层靶孔;对打完内层靶孔的板进行图形制作,使用开窗挡点比盲孔孔径单边大0.03mm至0.06mm的菲林进行曝光,并制作盲孔开窗;对盲孔开窗后的板进行激光镭射打孔;对板进行填孔电镀;线路图形对位使用开窗时的靶,进行图形蚀刻;正常制作后续工序。
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