[发明专利]进气方式及压力可调的多功能大尺寸化学气相沉积设备在审
| 申请号: | 201611024231.1 | 申请日: | 2016-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN106521456A | 公开(公告)日: | 2017-03-22 |
| 发明(设计)人: | 刘忠范;陈召龙;张艳锋;陈旭东 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京方安思达知识产权代理有限公司11472 | 代理人: | 王宇杨,武玥 |
| 地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种进气方式及压力可调的多功能大尺寸化学气相沉积设备,包括工艺腔室(1)、加热炉体及开合系统(2)、炉门机构及腔室密封系统(3)、水冷热交换器(4)、压力调控系统(5)、进出气系统(6)以及电气控制系统(7);其中,工艺腔室(1)的水平一端安装有炉门机构及腔室密封系统(3),其水平另一端则与压力调控系统(5)相连接,压力调控系统(5)对工艺腔室(1)内部的压力进行调节;工艺腔室(1)的垂直向外围安装有加热炉体及开合系统(2);水冷热交换器(4)位于加热炉体及开合系统(2)的顶部,对其做温度调节;进出气系统(6)连通到工艺腔室(1)的内部;电气控制系统(7)对整个CVD设备进行控制。 | ||
| 搜索关键词: | 方式 压力 可调 多功能 尺寸 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种进气方式及压力可调的多功能大尺寸化学气相沉积设备,其特征在于,包括:工艺腔室(1)、加热炉体及开合系统(2)、炉门机构及腔室密封系统(3)、水冷热交换器(4)、压力调控系统(5)、进出气系统(6)以及电气控制系统(7);其中,所述工艺腔室(1)的水平一端安装有所述炉门机构及腔室密封系统(3),其水平另一端则与压力调控系统(5)相连接,所述压力调控系统(5)对所述工艺腔室(1)内部的压力进行调节;所述工艺腔室(1)的垂直向外围安装有加热炉体及开合系统(2);所述水冷热交换器(4)位于所述加热炉体及开合系统(2)的顶部,对设备表面做温度调节;所述进出气系统(6)连通到所述工艺腔室(1)的内部;所述电气控制系统(7)对整个CVD设备进行控制。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





