[发明专利]一种GaN基LED与TFT异质单片集成的LED微显示像素单元结构有效
申请号: | 201611012732.8 | 申请日: | 2016-11-17 |
公开(公告)号: | CN106449661B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 刘立林;张向英 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种TFT与GaN基LED异质单片集成的LED微显示像素单元结构,该结构由GaN基LED结构与TFT结构两部分组成:GaN基LED在蓝宝石衬底依次外延生长u‑GaN缓冲层、n‑GaN层、InGaN/GaN量子阱有源层、p‑GaN层、InGaN基接触层;TFT结构是在已经制作成LED芯片单元结构上面进行生长,依次生长绝缘层、TFT源极(也是LED的P电极)、TFT漏极、半导体层作为TFT有源层、栅极绝缘层、栅极。本发明实现了LED与TFT集成到同一衬底上,实现异质单片集成TFT直接调制LED灰度,提升LED微显示的电学稳定性和集成度。 | ||
搜索关键词: | 一种 gan led tft 单片 集成 显示 像素 单元 结构 | ||
【主权项】:
1.一种GaN基LED和TFT异质单片集成的LED微显示像素单元结构,其特征在于,该结构由GaN基LED结构和TFT结构两部分组成,TFT结构是生长在GaN基LED结构的InGaN接触层表面,依次生长绝缘层、TFT源极、TFT漏极、TFT有源层、TFT栅极绝缘层和TFT栅极,其中TFT有源层采用半导体材料,TFT源极还作为LED的P电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的