[发明专利]一种钼钾合金靶材的制备方法

摘要

一种钼钾合金靶材的制备方法，包括以下步骤：首先选取钼粉和K₂MoO₄粉末，然后将选取的K₂MoO₄粉末配制成去离子水溶液，配制完成后将K₂MoO₄溶液按照质量比为（5~10）：（90~95）均匀的喷入到选取的钼粉中，充分混合后将混合物填充在色套内预压紧，随后经脱气处理、压制成型、真空热压烧结、多次锻打、真空退火、机械加工以及涂覆高分子保护膜后制得产品；本发明操作简单，制成的靶材密度高，成分均匀，可进行后续的机械加工，镀膜效果好并且能够有效的节约成本。

主权项

1.一种钼钾合金靶材的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一、选取钼纯度为99.96％、粒度为1～3μm的钼粉以及纯度为99.96％、粒度为10～30μm的K2MoO4粉末，备用；步骤二、将步骤一选取的K2MoO4粉末加入到去离子水中，配制成质量浓度为2～5％的去离子水溶液，备用；步骤三、将步骤二中配制的K2MoO4溶液放入喷雾瓶中，并按照质量比为(5～10)：(90～95)将喷雾瓶中的K2MoO4溶液均匀的喷入到步骤一选取的钼粉中，充分混合后备用；步骤四、采用不锈钢板、碳钢或者钛板制作色套，并将步骤三得到的混合物填充在色套内，然后将色套密封后抽真空，然后在室温下进行预压紧，预压压紧力为10～30MPa，预压过程中确保压头除了上下方向运动外，四周其他方向都固定无法运动；步骤五、将经步骤四处理后的色套，置于脱气炉中进行脱气处理，脱气温度为300～600℃，脱气时间根据装粉量不同从10h～30h；步骤六、将经步骤五脱气完毕的色套放入热等静压成型机中在温度为1000～1300℃、压制压力为100～130MPa的条件下压制成型，然后去色套，制成管坯，备用；步骤七、将步骤六制得的管坯放入真空热压烧结炉中，在温度为1100～1500℃的条件下烧结2～3h，烧结完成后取出备用；步骤八、将经步骤七烧结管坯进行多次锻打，锻打完成后放入真空退火炉中进行真空退火，退火温度为700～1200℃，保温0.5～1h后缓慢冷却至室温；步骤九、将经步骤八退火处理后的管坯经机械加工至溅射靶材的目标尺寸，备用；步骤十、将经步骤九加工后的溅射靶材在惰性气体保护氛围下，使用等离子喷涂的方法喷涂高分子保护膜，涂覆完成后制得产品。