[发明专利]一种覆盖地膜种植高山西红柿的方法在审
申请号: | 201610956056.3 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN106538202A | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 储昆 | 申请(专利权)人: | 岳西县诚信时令蔬菜专业合作社 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01G13/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 246600 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种覆盖地膜种植高山西红柿的方法,包括以下步骤(1)土地选择和平整;(2)地表做垄和施肥;(3)地膜覆盖对施好农家肥的垄行进行地膜覆盖,并用土块或者尖头木桩将地膜四周压实,用锄头在地膜上开孔挖穴,孔穴的行间距为0.2‑0.3米,孔穴深度为6‑10厘米,对孔穴内的土壤喷洒营养液;(4)移苗栽种;(5)虫害防治;(6)果实采摘。本发明的种植方式简单易学,采用覆地膜的方式进行西红柿的种植,避免了杂草生长的现象,提高了单亩西红柿的产量,且管理方便,采收快速便捷,相应的增加了农业种植户的经济收入。 | ||
搜索关键词: | 一种 覆盖 地膜 种植 高山 西红柿 方法 | ||
【主权项】:
一种覆盖地膜种植高山西红柿的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)土地选择和平整:选择土壤肥沃且地势平坦的沙土地块,对土地进行翻新,在土地四周做好排水沟,对翻新后的土地进行曝晒,曝晒时间为3‑4天,同时对土地进行酸碱度和含水量的调节;(2)地表做垄和施肥:对沙土地块进行破碎开垄行,垄行之间行距为20‑40厘米,对开垄后的土地进行泼洒农家肥,泼洒农家肥后继续曝晒2‑3天;(3)地膜覆盖:对施好农家肥的垄行进行地膜覆盖,并用土块或者尖头木桩将地膜四周压实,用锄头在地膜上开孔挖穴,孔穴的行间距为0.2‑0.3米,孔穴深度为6‑10厘米,对孔穴内的土壤喷洒营养液;(4)移苗栽种:将西红柿幼苗移栽到挖好的孔穴内,附上新土,微微拍实;(5)虫害防治:在幼苗成长期期间,喷洒65%百菌清400倍液和80%硫酸亚铁500倍液,在开花期,喷洒硼砂600倍液和氨基酸多肽授粉剂,在盛果期,喷洒硫酸锌500倍液;(6)果实采摘:盛果期时,晴天情况下,当西红柿上的露水晒干后进行摘取,摘取时一手扶住西红柿的主干枝,一手进行摘取。
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