[发明专利]一种低功耗磁性多阻态存储单元有效

专利信息
申请号: 201610955484.4 申请日: 2016-11-03
公开(公告)号: CN106654002B 公开(公告)日: 2018-12-04
发明(设计)人: 赵巍胜;王昭昊;林晓阳;粟傈;张磊 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01L43/10 分类号: H01L43/10;H01L43/08;G11C11/56
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司 11232 代理人: 王顺荣;唐爱华
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明一种低功耗磁性多阻态存储单元,从下到上由厚度为0~20nm的反铁磁条状薄膜,厚度为0~3nm的第一铁磁金属,厚度为0~2nm的第一氧化物,厚度为0~3nm的第二铁磁金属,厚度为0~20nm的第一合成反铁磁层和厚度为10~200nm第一电极构成;反铁磁条状薄膜两端分别镀有第二电极和第三电极;位于反铁磁条状薄膜上方的五层物质构成磁性隧道结。本发明可实现多阻态存储,其应用不再仅限于单比特存储和逻辑运算领域,可推广至类脑计算等领域;采用单向电流写入数据,简化存储器和逻辑电路设计,提高电路集成度,降低存储单元的功耗,有利于减少工艺的复杂度和制造成本;采用不同的支路写入数据,便于对不同数据的写入操作进行独立的优化和设计。
搜索关键词: 一种 功耗 磁性 多阻态 存储 单元
【主权项】:
1.一种低功耗磁性多阻态存储单元,其特征是:该存储单元从下到上由厚度为0~20nm的反铁磁条状薄膜,厚度为0~3nm的第一铁磁金属,厚度为0~2nm的第一氧化物,厚度为0~3nm的第二铁磁金属,厚度为0~20nm的第一合成反铁磁层和厚度为10~200nm的第一电极共六层构成;反铁磁条状薄膜的两端分别镀有第二电极和第三电极;其中,位于反铁磁条状薄膜上方的五层物质构成磁性隧道结;低功耗磁性多阻态存储单元的数据写入过程包括两种情形:第一种情形是磁性隧道结的电阻由低变高,第二种情形是磁性隧道结的电阻由高变低;其中第一种情形通过在第二电极和第三电极之间施加单向电流实现,第二种情形通过在第一电极和第二电极之间或者第一电极和第三电极之间施加单向电流实现;在第一种情形下,如果写入电流被撤除,磁性隧道结的电阻将稳定在最高值、最低值或二者之间,具体的阻值与写入电流的大小和持续时间有关;在第二种情形下,如果电流持续时间足够长,磁性隧道结的电阻将达到并稳定在最低值;完整的写入方式应该保证两条支路能够分别实现写入操作的两种情形,为此需要为每一条支路选择固定不变的写入电流方向,即,两条支路的写入电流均是单向的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学,未经北京航空航天大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610955484.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top